• 专利基本信息
  • 发明 2016102610839 一种单斜相BiVO4/GO/RGO晶体及其制备方法 2018

    已下证 半导体材料 光电气敏 光致发光 环保 高校未变 2人

    C30B7/10 C30B29/10

    • 联系人列表
    • 12-05
    • 10-15

    免责声明:以上消息未经人工确认,本平台不担保其真实性和有效性,交易前请仔细核实。

    • 专利摘要

    本发明公开了一种单斜相BiVO4/GO/RGO晶体及其制备方法,以Bi(NO3)3·5H2O为Bi源,向其中依次加入油酸、正庚烷、丙酮,在低温下搅拌6‑10h,合成纤维状Bi2O3模板。将制好的Bi2O3模板和NH4VO3分别溶于乙醇和水溶液中,溶解后混合,再加入分散好的GO悬浊液,形成前驱液,将前驱液在180℃水热反应制得BiVO4/GO/RGO晶体。其中BiVO4为单斜相,空间结构群为I2/a(15),随着水热时间的延长,晶体发育越完整,具有越良好的结构稳定性。在水热反应过程中GO被部分还原,并且随着时间的延长,GO被还原的程度越大。该方法操作简单,工艺稳定,是一种成熟可行的制备方法。

    • 专利生命周期
    专利申请:2016-04-25
    授权缴费截止日:2025-05-26
    专利授权日:2018-08-17 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24