• 专利基本信息
  • 发明 2016102012407 一种高磁性Bi0.96Sr0.04FeO3基/CoFe2O4复合薄膜及其制备方法 2018

    已下证 光电 导电薄膜 铁电随机存储器 自旋电子器件 磁电存储单元 2人

    C03C17/34

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    • 专利摘要

    本发明提供了一种高磁性Bi0.96Sr0.04FeO3基/CoFe2O4复合薄膜及其制备方法,该薄膜包括复合在一起的CoFe2O4和Bi0.96Sr0.04Fe1‑x‑yMnxCoyO3,x=0~0.04,y=0~0.02,且x、y不同时为0。制备时先配制CoFe2O4前驱液和Bi0.96Sr0.04FeO3基薄膜前驱液,然后用旋涂法和逐层退火的工艺在FTO基板上制备磁性CoFe2O4薄膜,再在CoFe2O4上制备Bi0.96Sr0.04FeO3基薄膜,形成高磁性Bi0.96Sr0.04FeO3基/CoFe2O4复合薄膜。本发明通过离子掺杂和与磁性CoFe2O4薄膜进行复合,大幅度提高了薄膜的介电、铁电和铁磁性能,还有效的降低了薄膜的漏电流密度。

    • 专利生命周期
    专利申请:2016-03-31
    授权缴费截止日:2025-04-30
    专利授权日:2018-08-14 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24