• 专利基本信息
  • 发明 2020105515705 一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置 2023

    已下证 硅半导体 硅晶片 光阻剂 光敏材料 硅晶圆加工 2人

    H01L21/66 G03F7/42

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    • 12-05
    • 10-30

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    • 专利摘要

    本发明属于晶圆领域,尤其是一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置,针对目前市场上的硅晶圆光阻溶解过程观测装置使用不够方便,不便于进行溶解操作,现提出如下方案:一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置,包括底座与溶解桶,所述底座的下端外表面固定安装有支架,所述支架的下端活动安装有滚轮,所述底座的上端固定安装有固定座,所述溶解桶放置在固定座的上端,所述底座的上端位于固定座的一侧的位置固定安装有安装座,所述安装座的上端活动连接有立柱。本发明中,通过滚轮上的减震结构是装置移动更加稳定,通过可转动的立柱能够方便观测装置的使用,并且通过可升降的夹具能够方便对晶圆进行光阻溶解操作。

    • 专利生命周期
    专利申请:2020-06-17
    授权缴费截止日:2025-07-17
    专利授权日:2023-12-26 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-25