• 专利基本信息
  • 发明 2019800001132 芯片及芯片的制造方法 2023

    已下证 半导体技术 芯片制造工艺 1人

    H01L23/00

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    • 02-21

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    • 专利摘要

    一种芯片及芯片的制造方法。芯片包括芯片本体(10),芯片本体(10)包括:衬底(101)、器件层(102)和多孔硅结构,器件层(102)位于衬底(101);多孔硅结构设置于衬底(101)上,多孔硅结构用于与化学开盖溶液反应以破坏芯片本体(10)。所述芯片,作为化学开盖溶液的硝酸与多孔硅结构反应,以破坏芯片本体,防止芯片内存储的信息被破解和窃取,提高芯片的安全性。

    • 专利生命周期
    专利申请:2019-01-15
    授权缴费截止日:2025-02-17
    专利授权日:2023-10-17 00:00:00.0
    最近更新时间:2025-04-04