• 专利基本信息
  • 发明 2020111757383 一种量子点发光二极管及其制备方法 2022

    已下证 量子点材料 发光二极管 发光器件 (量子点材料 发光器件) 2人

    H01L33/06 H01L33/22 H01L33/26 H01L33/40 H01L33/00

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    • 12-05
    • 10-15

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    • 专利摘要

    本申请提供一种量子点发光二极管及其制备方法。量子点发光二极管的制备方法:包括:在阳极衬底上,形成空穴注入层;在所述空穴注入层上,形成空穴传输层;在所述空穴传输层上,形成量子点发光层;在所述量子点发光层上,形成具有多层金属氧化物的电子传输层;所述多层金属氧化物中包括至少两层不同的金属氧化物;在所述电子传输层上,形成金属阴极。该制备方法用以提高量子点发光二极管的性能。

    • 专利生命周期
    专利申请:2020-10-27
    授权缴费截止日:2024-11-27
    专利授权日:2022-08-12 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24