• 专利基本信息
  • 发明 2016112117852 用于缸体的打磨装置 2018

    已下证 1 2人

    B24C9/00

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    • 12-05
    • 10-15

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    • 专利摘要

    本专利公开了一种用于缸体的打磨装置,包括壳体和旋转工作台,旋转工作台设置于壳体的底部,壳体的顶部设有密封盖,且壳体的侧壁上设有若干用于抛丸喷出的喷孔,旋转工作台上设有转轴,旋转工作台包括底座和与电源电连接的电机,电机与底座的底部固接,转轴与底座的顶部固接;转轴上设有若干转盘,每个转盘上设有贯穿转盘的旋转轨道,旋转轨道上设有支撑杆,支撑杆上可拆卸连接有上定位件、中定位件和下定位件,且上定位件和中定位件均位于转盘上方,下定位件位于转盘下方;支撑杆上缠绕有橡筋条,且橡筋条远离支撑杆的一端与旋转轨道的内侧壁连接。本方案主要解决了缸体打磨的过程中抛丸容易卡在缸体上的问题。

    • 专利生命周期
    专利申请:2016-12-25
    授权缴费截止日:2025-01-27
    专利授权日:2018-09-21 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24