• 专利基本信息
  • 发明 2017113767621 一种双成像方法、装置及其应用 2021

    已下证 2人

    G02B27/60 G02B30/27

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    • 12-23
    • 08-01

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    • 专利摘要

    本发明基于聚焦元件阵列层和微图文阵列层,首次提出了一种双成像方法、装置及其应用,通过像素单元构成具有待成像图形的微图文单元,所述像素单元在光源的照明下产生散射光与零级光;多个微图文单元的零级光分别聚焦后,汇聚形成第一套放大的莫尔图像;微图文单元的散射光经聚焦后形成第二套放大的莫尔图像。上述成像方法和系统具有特殊的光响应,可用于信息与图像处理、防伪安全、包装装饰等领域。

    • 专利生命周期
    专利申请:2017-12-19
    专利授权日:2021-03-23 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24