发明 2017109501574 清洗箱及清洗箱内壁的清洗方法 2020
已下证 半导体制造 集成电路 晶圆 【半导体制造技术 晶圆清洁】 4人
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本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种清洗箱及清洗箱内壁的清洗方法。所述清洗箱，包括箱体，所述箱体的内壁设置有一流体通道，清洗液能够经所述流体通道流出，以覆盖于所述内壁的内表面；所述箱体的内壁还包括一夹层，所述夹层内设置有至少一超声波换能器，用于发射超声波；所述超声波作用于所述清洗液以实现对所述内壁的清洗。本发明实现了对清洗箱内壁的自动清洗，防止结晶在清洗箱内壁生成，节省了人力资源，提高了清洗箱的清洗效率。
