• 专利基本信息
  • 发明 2019107944115 一种荧光高分子形状记忆材料及其制备方法 2020

    已下证 高校未变 1人

    C08F220/14 C08F220/18 C08F220/06 C08F220/58 C08F228/02 C08F226/10 C09K11/06

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    • 12-05

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    • 专利摘要

    本发明公开了一种荧光高分子形状记忆材料及其制备方法,属于高分子材料领域。本发明通过自由基共聚合的方法将带有双键的荧光单体与形状记忆高分子共聚得到荧光高分子形状记忆材料。本发明制备的荧光高分子形状记忆材料具有较好记忆性能和发光性能,在普通的光照中不会有任何显现,在紫外光下会呈现不同的颜色和图案,可广泛的应用于防伪标识,安全标识、包装材料、光学领域和生物成像。

    • 专利生命周期
    专利申请:2019-08-27
    授权缴费截止日:2024-09-27
    专利授权日:2020-07-03 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24