• 专利基本信息
  • 发明 2022113564702 一种六轴数控抛光机加工分析控制管理系统 2023

    已下证 大数据 机械控制 数控抛光机 六轴数控 机械加工 1人

    B24B29/02 B24B51/00 G06T7/13 G06T7/73

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    • 12-05

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    • 专利摘要

    本发明涉及抛光加工管理技术领域,具体公开一种六轴数控抛光机加工分析控制管理系统。该系统包括待抛光异形工件信息获取模块、待抛光异形工件抛光因素采集模块、待抛光异形工件抛光时长解析模块、待抛光异形工件抛光难度解析模块、待抛光异形工件抛光环境解析模块和待抛光异形工件抛光顺序解析模块。本发明有效地解决了当前技术缺乏对异形工件抛光顺序进行解析的问题,大幅度提升了异形工件的抛光质量和抛光效率,并且有效地规避了异形工件抛光顺序对抛光效果的干扰,同时还在保障抛光效率的基础上尽可能的降低异形工件在抛光过程的废品率以及六轴数控抛光机在抛光过程中的磨损率,实用性较高。

    • 专利生命周期
    专利申请:2022-11-01
    授权缴费截止日:2024-12-02
    专利授权日:2023-12-29 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24