• 专利基本信息
  • 发明 2020113701965 一种渐变遮盖提花织物的织造方法 2022

    已下证 2人

    D03D13/00 D03D15/54

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    • 12-23
    • 08-01

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    • 专利摘要

    本申请提供一种渐变遮盖提花织物的织造方法,属于织造方法技术领域。在纬纱排列为甲纬:乙纬=2:1的单经双纬结构中,设计两组表里纬组织和对应遮盖技术点并用影光加强法实现织物甲纬单纬渐变、乙纬和甲纬混合渐变两种显色效果,渐变最大显色组织数为[R/N(6R‑2J2‑J1‑3)+2],渐变级别数≤最大显色组织数;主要步骤是:(1)结构模型构建,(2)甲纬和乙纬组织的选择,(3)表、里组织和遮盖技术点的设计,(4)表层影光组织库设计,(5)表、里组织组合设计,(6)遮盖技术点验证,(7)数码图案设计,(8)织物组合结构设计,(9)织造,设计所得织物满足遮盖要求且可大批量生产。

    • 专利生命周期
    专利申请:2020-11-30
    专利授权日:2022-03-15 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-25