• 专利基本信息
  • 发明 2020111313166 一种霍尔传感器及其制作方法

    未下证 半导体 芯片 磁场传感器 电压传感器 磁电效应 1人

    H01L43/06 H01L43/04 H01L43/14 G01D5/14

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    • 专利摘要

    本发明提供了一种霍尔传感器及其制作方法,包括P型衬底以及位于所述P型衬底上的N阱有源区、P型覆盖层、引出电极和至少四个接触孔;所述P型覆盖层和所述引出电极位于所述N阱有源区的中间区域;所述引出电极覆盖所述P型覆盖层,且分布在所述P型覆盖层的中间区域;所述至少四个接触孔分布在所述N阱有源区的四周,且分别位于所述引出电极的至少四个叉指的外端。因此,在霍尔传感器工作时,能够在N阱有源区和P型覆盖层之间产生耗尽层,从而可以有效减少热载流子效应,改善N阱有源区杂质的高斯分布,增加有效的N阱深度,降低N阱杂质浓度,进而可以提高霍尔器件的灵敏度。

    • 专利生命周期
    专利申请:2020-10-21
    最近更新时间:2024-12-24