• 专利基本信息
  • 发明 2018112302890 氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结忆阻器的制备方法 2022

    已下证 微电子材料 忆阻器 存储器 忆阻器薄膜 电子传输 3人

    H01L45/00 B82Y30/00

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    • 专利摘要

    本发明公开了一种氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结忆阻器的制备方法,具体包括如下步骤:步骤1,制备氧化镍凝胶薄膜;步骤2,在步骤1制备的氧化镍凝胶薄膜上制备氧化钛凝胶膜,得氧化钛/氧化镍基片;步骤3,在步骤2所得氧化钛/氧化镍基片上陈化氧化镍凝胶薄膜,得氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结薄膜;步骤4,使用溅射仪对步骤3所得的氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结薄膜进行顶电极制备,即得。使用本发明的制备方法可以在ITO底电极上一次性制得氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结薄膜,制备成本低、工艺简单、容易控制,提高了氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结的制备效率。

    • 专利生命周期
    专利申请:2018-10-22
    授权缴费截止日:2025-11-22
    专利授权日:2022-10-14 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24