• 专利基本信息
  • 实用 2023207796952 一种高度可调的刻印机构 2024

    已下证 1人

    B23K26/362 B23K26/70

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    • 专利摘要

    本实用新型提供一种高度可调的刻印机构,涉及刻印机构技术领域;以解决现有的高度可调的刻印机构刻印范围小,不便于移动调节刻印高度,影响刻印效果的问题;包括安装支撑部;所述安装支撑部上固定连接有激光刻印机;所述安装支撑部上安装有移动拓展件;所述移动拓展件上安装有升降控制部;所述升降控制部上固定连接有限位稳定件;采用设置的限位稳定件可以实现更加稳定的夹持物料,保证了移动以及刻印过程中的稳定性,通过采用升降控制部,可以实现辅助进行移动驱动升降工作,保证了刻印质量,可以保证刻印距离不受物料厚度影响,有效的保证刻印效果。

    • 专利生命周期
    专利申请:2023-04-11
    专利授权日:2024-05-31 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24