• 专利基本信息
  • 发明 2018109676520 一种硫化镉量子点修饰的可植入传感器的制备方法 2020

    已下证 2人

    G01N21/64 A61B5/145

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    • 12-23
    • 08-01

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    • 专利摘要

    本发明涉及传感器领域,公开了一种硫化镉量子点修饰的可植入传感器的制备方法,本发明制备方法通过改进的再沉淀方法制备染料掺杂的聚合物位点,用Pd(II)八乙基卟啉(PdOEP)染料掺杂PDHF聚合物位点,然后将水热法得到的硫化镉量子点修饰染料掺杂的聚合物位点,最后通过1‑(3‑二甲氨基丙基)‑3‑乙基碳二亚胺盐酸盐(EDC)催化的肽将葡萄糖氧化酶与聚合物位点的表面缀合,使葡萄糖氧化酶与聚合物位点生物偶联,以此得到一种硫化镉量子点修饰的可植入传感器,与传统传感器相比具有更加优异的检测性能。本发明传感器柔性好,可应用于医疗生物监测,环境和卫生监测等领域。

    • 专利生命周期
    专利申请:2018-08-23
    专利授权日:2020-10-16 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24