• 专利基本信息
  • 发明 2020114708586 一种具有位置调整功能的输送缸电镀上料台 2022

    已下证 电镀 电镀废气收集 电镀槽 化工 金属表面处理 1人

    B66F7/00 B66F7/28 C25D7/04 C25D17/00

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    • 12-05

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    • 专利摘要

    本发明公开了一种具有位置调整功能的输送缸电镀上料台,涉及输送缸电镀加工领域,包括上料台、传递机构,调整夹紧机构,所述上料台的两侧均安装有多组固定弧板,且上料台的两侧位于固定弧板的一端安装有连接弧板,所述上料台的内部设置有滑动槽,所述连接弧板的内部设置有降摩擦机构;其中,所述传递机构包括有位于滑动槽上方的传递弧板,所述传递弧板的底端连接有连接柱,一个所述连接柱的一端设置有三号电机,且多组连接柱之间连接有固定杆,所述三号电机的输出端连接有主动皮带盘。本发明通过设置传递机构与滑动机构,实现等时差传输的同时降低传递机构与上料台之间的摩擦力,从而延长装置的使用寿命。

    • 专利生命周期
    专利申请:2020-12-14
    授权缴费截止日:2025-01-14
    专利授权日:2022-04-12 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24