• 专利基本信息
  • 发明 2021100487192 一种降膜脱挥器及其降膜元件 2023

    已下证 2人

    B01J19/00 B01J19/18 B01J19/24 B01D1/22 B01D1/30 C08G63/78 C08G69/00

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    • 12-23
    • 08-01

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    • 专利摘要

    本发明涉及一种生产高黏物料的降膜式脱挥器及其降膜元件,包括立式塔体、及其上端相连的封头和下端相连的底壳,脱挥器内设有物料箱体和交错排列的降膜元件,降膜元件为多个凹槽组成的倾斜波纹板结构,物料箱体底部有布料板,布料板上为其下方对应降膜元件上凹槽分配有布膜结构,降膜元件下方有管件相连。本发明具有物料流动形态可控、流量调节范围宽、物料停留时间分布窄等优点,适用于聚合物生产、纺丝液脱泡和溶液浓缩等物料脱挥增黏过程。

    • 专利生命周期
    专利申请:2021-01-14
    专利授权日:2023-07-25 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-25