• 专利基本信息
  • 发明 2021102815045 一种印染废水处理装置及系统 2021

    已下证 废水处理 2人

    C02F9/14 B01J20/26 B01J20/28 B01J20/30 C02F101/30 C02F101/32 C02F101/34 C02F103/30

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    • 12-16
    • 08-16

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    • 专利摘要

    本发明涉及一种印染废水处理装置及系统,其中,一种印染废水处理装置,包括基座,设置在基座上部的封闭箱体,在封闭箱体的上部一侧设置有进水管,以及在封闭箱体的上部和下部分别设置有上封闭区和下封闭区;吸附组件,设置在封闭箱体的内部左侧,且位于上封闭区和下封闭区之间,MBR膜组件,设置在封闭箱体的内部,位于吸附组件的右侧,且位于上封闭区和下封闭区之间;在所述下封闭区且位于吸附组件的下部设置有下曝气装置,与下曝气装置连接的气流存储区,与气流存储区的气流管连接的逆流阀,逆流阀与曝气管连接,所述曝气管设置在封闭箱体的下部,且位于下导轨的左侧以及左封闭区的右侧,本发明还提供了一种系统,配合上述的装置。

    • 专利生命周期
    专利申请:2021-03-16
    专利授权日:2021-12-07 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-12-24