• 专利基本信息
  • 发明 2024105554341 一种陶瓷抛光废水处理装置

    未下证 废水处理 陶瓷加工 絮凝剂 抛光废水 工业废水 1人

    C02F1/52 B01D21/02 B01D46/10 B01D46/30 C02F1/00

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    • 专利摘要

    本发明属于废水处理技术领域,尤其是涉及一种陶瓷抛光废水处理装置,包括废水箱,所述废水箱的内部分为沉淀区和清水区,且沉淀区内部的水液溢流进入清水区,所述沉淀区的顶部固定插接有进水座,且进水座的内部设置有主进水腔、备进水腔和排水腔。本发明通过交替进水配合多个注水管的进水方式,可以有效减轻进水冲击的现象,且能够自动调控絮凝剂的投入量,不仅可以确保对陶瓷抛光废水的絮凝沉淀效果,便于陶瓷抛光废料与水的分离,而且可以防止絮凝剂浪费,并利于絮凝剂与废水的充分接触,絮凝沉淀效果分离效果好,同时,可以自动提醒人员换水以及更换抛光砂盘。

    • 专利生命周期
    专利申请:2024-05-07
    最近更新时间:2024-12-24